第4世代炭化ケイ素テクノロジー:ハイパワーアプリケーションにおける性能と耐久性の再定義

第4世代炭化ケイ素テクノロジー:ハイパワーアプリケーションにおける性能と耐久性の再定義

2025年2月6日

炭化ケイ素

このホワイトペーパーでは、ウォルフスピードの第4世代炭化ケイ素(SiC)MOSFET技術に焦点を当て、ハイパワーエレクトロニクス用途向けに設計されていることを紹介しています。ウォルフスピードはSiC技術革新の遺産を基に、業界のベンチマークを再定義する最先端技術ソリューションを定期的に発表しています。Gen4のリリースに先立ち、第3世代SiC MOSFETは広範な使用ケースに対応する重要な設計要素をバランスさせ、ハードスイッチング・アプリケーションにおける充実した性能のベンチマークを設定しました。

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当社のグローバル・アプリケーション・エンジニア・チームは、お客様の電力変換またはエネルギー貯蔵システムの設計がお客様の期待性能を満たすよう、お客様のご質問にお答えします。シリコンから窒化ガリウム(GaN)または炭化ケイ素(SiC)への移行をお考えの場合、アプリケーションに必要な電力密度と効率の向上を達成するための適切なスイッチング・デバイスを特定するお手伝いをいたします。