Galliumnitrid (GaN)

Galliumnitrid, ein Halbleiter mit breiter Bandlücke, verdrängt zunehmend Silizium als Material der Wahl für Leistungstransistoren. Mit ihren überlegenen Materialeigenschaften und ihrer einfachen Anwendung ermöglichen die GaN E-HEMTs von Gan Systems den Entwicklern, neue Maßstäbe für Effizienz, Leistungsdichte, Größe und Gewicht zu setzen.

Innoscience

Das INN100W14 wurde unter Verwendung hochwertigster Materialien und modernster Fertigungsverfahren hergestellt. Das Ergebnis ist ein hocheffizientes und äußerst zuverlässiges Gerät.

  • GaN-auf-Silizium E-Mode HEMT-Technologie
  • Zweikanalig, gemeinsame Quelle
  • Ultrahohe Schaltfrequenz
  • Schnelle und steuerbare Abfall- und Anstiegszeit
  • Extrem widerstandsarm

Innoscience

650V GaN-on-Silicon Enhancement-mode Leistungstransistor im Dual Flat No-lead Gehäuse (DFN) mit 8 mm × 8 mm Größe.

  • Transistor im Anreicherungsmodus - Normalerweise ausgeschalteter Leistungsschalter
  • Ultrahohe Schaltfrequenz
  • Keine Umkehrung der Steuerschuldnerschaft
  • Niedrige Gate-Ladung, niedrige Ausgangsladung

Galliumnitrid (GaN) Ressourcen

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Über unser Expertenteam

Unser Team aus weltweit tätigen Anwendungsingenieuren steht für Ihre Fragen zur Verfügung, um sicherzustellen, dass Ihr Entwurf für ein Energieumwandlungs- oder Energiespeichersystem Ihre Leistungserwartungen erfüllt. Wenn Sie von Silizium auf Galliumnitrid (GaN) oder Siliziumkarbid (SiC) umsteigen, helfen wir Ihnen, das richtige Schaltgerät zu finden, um die Leistungsdichte und den höheren Wirkungsgrad zu erreichen, die Ihre Anwendung erfordert.